一種替米考星離心噴霧盤

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201920278093.2 申請日 -
公開（公告）號 CN210010074U 公開（公告）日 2020-02-04
申請公布號 CN210010074U 申請公布日 2020-02-04
分類號 B05B3/10;B05B15/50 分類 一般噴射或霧化；對表面涂覆液體或其他流體的一般方法〔2〕;
發(fā)明人 齊森森 申請（專利權(quán)）人 浙江德博生物科技有限公司
代理機構(gòu) 杭州杭誠專利事務(wù)所有限公司 代理人 尉偉敏
地址 312400 浙江省紹興市嵊州市經(jīng)濟開發(fā)區(qū)城北區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及離心噴霧設(shè)備領(lǐng)域，包括電機、轉(zhuǎn)軸、霧化盤和均流盤，所述轉(zhuǎn)軸上端與電機連接，下端與霧化盤連接，所述均流盤靠近轉(zhuǎn)軸處設(shè)有儲液槽，均流盤位于儲液槽的外側(cè)設(shè)有均流通道，所述均流通道的上開口高于儲液槽槽面，所述上開口向內(nèi)側(cè)設(shè)有具有缺口的開口滑移擋環(huán)，所述霧化盤的側(cè)面設(shè)有霧化出料口，本實用新型設(shè)有儲液槽和均流通道，使得進料量均勻，因此能夠防止離心噴霧時顆粒粒徑出現(xiàn)較大差異，并且設(shè)有開口滑移擋環(huán)，適用于不同粘度體系的溶液。