一種自加熱的PBN坩堝

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202021758342.7 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN214193433U 公開（公告）日 2021-09-14
申請(qǐng)公布號(hào) CN214193433U 申請(qǐng)公布日 2021-09-14
分類號(hào) C23C14/26（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 劉汝強(qiáng);王殿春;趙旭榮 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 山東國晶新材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 濟(jì)南金迪知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 趙龍群
地址 251200山東省德州市禹城市南環(huán)東路88號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及一種自加熱的PBN坩堝，屬于坩堝生產(chǎn)加工技術(shù)領(lǐng)域，坩堝包括PBN材質(zhì)的坩堝基體，坩堝基體外表面設(shè)置PG導(dǎo)電層，PG導(dǎo)電層上涂覆一層PBN涂層。本實(shí)用新型通過坩堝自身的PG導(dǎo)電層直接進(jìn)行加熱，有效減少熱量在輻射傳遞過程中的損失，提高能量利用率及加熱效率。