正電子發(fā)射計算機斷層成像裝置及方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110828771.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113558648A | 公開(公告)日 | 2021-10-29 |
申請公布號 | CN113558648A | 申請公布日 | 2021-10-29 |
分類號 | A61B6/03(2006.01)I | 分類 | 醫(yī)學(xué)或獸醫(yī)學(xué);衛(wèi)生學(xué); |
發(fā)明人 | 李炳軒;王侃 | 申請(專利權(quán))人 | 湖北銳世數(shù)字醫(yī)學(xué)影像科技有限公司 |
代理機構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 436000湖北省鄂州市梧桐湖新區(qū)鳳凰大道9號東湖高新科技創(chuàng)意城A-03 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了正電子發(fā)射計算機斷層成像裝置及方法,裝置的探測部包括若干個探測模組,探測模組的探測面沿著第一圓周分布,其中至少兩組探測模組的探測面相對布置且位于第一圓周的直徑方向上,第一圓周上形成有至少一個開口;探測部的探測面在檢測時通過運動變化為沿著第二圓周分布,第一圓周和第二圓周的直徑不同;方法包括:采用PET裝置進行成像,PET裝置包括沿著第一圓周分布的若干個探測模組和至少一個開口;改變PET裝置的形狀,使探測模組的探測面和開口沿著第二圓周分布;采用采用形狀變化的PET裝置再次進行成像。本發(fā)明不僅提供了良好的系統(tǒng)開放性,而且可以改變開口部分的大小和角度,適配性好,同時能夠保證系統(tǒng)靈敏度和響應(yīng)均一性。 |
