一種氮化鎵基LED外延片及其生長方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN200810229846.7 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN101752480B | 公開(公告)日 | 2011-06-29 |
申請公布號 | CN101752480B | 申請公布日 | 2011-06-29 |
分類號 | H01L33/00(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 楊天鵬;郭文平;陳向東;劉海燕;肖志國 | 申請(專利權(quán))人 | 大連路美芯片科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 116025 遼寧省大連市高新園區(qū)高能街1號B607 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種氮化鎵基LED外延片及其生長方法,即在氮化鎵基LED外延片中引入電容式結(jié)構(gòu),該電容式結(jié)構(gòu)包括n型電容式結(jié)構(gòu)和p型電容式結(jié)構(gòu),n型電容式結(jié)構(gòu)為氮化鎵基n型層/非摻雜層/氮化鎵基n型層結(jié)構(gòu);p型電容式結(jié)構(gòu)為氮化鎵基p型層/非摻雜層/氮化鎵基p型層結(jié)構(gòu);通過在n型和p型氮化鎵層中形成電容式外延結(jié)構(gòu),緩解靜電對氮化鎵基LED芯片的沖擊,提高LED芯片對靜電的耐受能力。 |
