一種霍爾傳感器及其制作方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> 2020111313166 申請(qǐng)日 -
公開(公告)號(hào) CN112259679A 公開(公告)日 2021-01-22
申請(qǐng)公布號(hào) CN112259679A 申請(qǐng)公布日 2021-01-22
分類號(hào) H01L43/06(2006.01)I; 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 李健萍;陳嵐 申請(qǐng)(專利權(quán))人 佛山中科芯蔚科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 姚璐華
地址 528200廣東省佛山市南海區(qū)桂城街道深海路17號(hào)瀚天科技城A區(qū)7號(hào)樓一樓104單元
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種霍爾傳感器及其制作方法,包括P型襯底以及位于所述P型襯底上的N阱有源區(qū)、P型覆蓋層、引出電極和至少四個(gè)接觸孔;所述P型覆蓋層和所述引出電極位于所述N阱有源區(qū)的中間區(qū)域;所述引出電極覆蓋所述P型覆蓋層,且分布在所述P型覆蓋層的中間區(qū)域;所述至少四個(gè)接觸孔分布在所述N阱有源區(qū)的四周,且分別位于所述引出電極的至少四個(gè)叉指的外端。因此,在霍爾傳感器工作時(shí),能夠在N阱有源區(qū)和P型覆蓋層之間產(chǎn)生耗盡層,從而可以有效減少熱載流子效應(yīng),改善N阱有源區(qū)雜質(zhì)的高斯分布,增加有效的N阱深度,降低N阱雜質(zhì)濃度,進(jìn)而可以提高霍爾器件的靈敏度。??