雙層曝光結(jié)構的顯示電漿模組及其制造方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201911324519.4 申請日 -
公開（公告）號 CN110908212A 公開（公告）日 2020-03-24
申請公布號 CN110908212A 申請公布日 2020-03-24
分類號 G02F1/167;G02F1/16753;G02F1/1679 分類 光學;
發(fā)明人 包進;陳山;唐振興;許俊 申請（專利權）人 無錫威峰科技股份有限公司
代理機構 無錫市大為專利商標事務所（普通合伙） 代理人 無錫威峰科技股份有限公司
地址 214028 江蘇省無錫市新吳區(qū)綜合保稅區(qū)J1-3
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及電子顯示領域，具體涉及一種雙層曝光結(jié)構的顯示電漿模組及其制造方法。其中，雙層曝光結(jié)構的顯示電漿模組包括：基板，基板包括顯示區(qū)和包圍在所述顯示區(qū)外周的襯墊框區(qū)；下電極，所述下電極設于所述顯示區(qū)中，所述下電極包括若干成陣列式排布的像素下電極；上電極，所述上電極設于所述下電極上；顯示電漿，所述顯示電漿填充在所述上電極和下電極之間；電漿阻離框，所述電漿阻離框設于顯示電漿中，所述電漿阻離框包括若干單元框，每個所述單元框?qū)蛟谒鱿袼叵码姌O的外周，所述單元框上設有支撐柱；襯墊邊框，所述襯墊邊框設在所述襯墊框區(qū)中，所述襯墊邊框的下端與所述基板耦合密封，上端與上電極耦合密封。本發(fā)明能夠提高顯示效果。