一種微納米標(biāo)準(zhǔn)樣板及其循跡方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201610401901.0 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN105865389A | 公開(公告)日 | 2016-08-17 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN105865389A | 申請(qǐng)公布日 | 2016-08-17 |
分類號(hào) | G01B21/04(2006.01)I | 分類 | 測(cè)量;測(cè)試; |
發(fā)明人 | 雷李華;邵力;李源;魏佳斯;蔡瀟雨;傅云霞;張波 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 上海計(jì)測(cè)信息科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海浦東良風(fēng)專利代理有限責(zé)任公司 | 代理人 | 陳志良 |
地址 | 201203 上海市浦東新區(qū)張衡路1500號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明為一種微納米標(biāo)準(zhǔn)樣板及其循跡方法,其特征在于:所述的微納米標(biāo)準(zhǔn)樣板包括A區(qū)域、B區(qū)域和C區(qū)域三個(gè)工作區(qū)域;所述的A區(qū)域設(shè)有向上的箭頭形狀的循跡標(biāo)識(shí);所述的B區(qū)域設(shè)有不同計(jì)量尺寸的第一矩陣陣列光柵和第二矩陣陣列光柵;所述的C區(qū)域設(shè)有不同計(jì)量尺寸的第一橫向刻度尺、第二橫向刻度尺、第三橫向刻度尺和第四橫向刻度尺,所述的C區(qū)域還設(shè)有四個(gè)等腰直角三角形形狀的循跡標(biāo)識(shí)。所述A區(qū)域的向上的箭頭形狀的循跡標(biāo)識(shí)實(shí)現(xiàn)了在測(cè)量前快速定位微納米標(biāo)準(zhǔn)樣板并確定樣板的正交掃描方向,便于快速定位B區(qū)域和C區(qū)域,并通過坐標(biāo)關(guān)系實(shí)現(xiàn)重復(fù)性測(cè)量。 |
