一種微納米標準樣板及其循跡方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201610401901.0 申請日 -
公開（公告）號 CN105865389B 公開（公告）日 2018-11-02
申請公布號 CN105865389B 申請公布日 2018-11-02
分類號 G01B21/04 分類 測量；測試;
發(fā)明人 雷李華;邵力;李源;魏佳斯;蔡瀟雨;傅云霞;張波 申請（專利權(quán)）人 上海計測信息科技有限公司
代理機構(gòu) 上海浦東良風(fēng)專利代理有限責(zé)任公司 代理人 陳志良
地址 201203 上海市浦東新區(qū)張衡路1500號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明為一種微納米標準樣板及其循跡方法，其特征在于：所述的微納米標準樣板包括A區(qū)域、B區(qū)域和C區(qū)域三個工作區(qū)域；所述的A區(qū)域設(shè)有向上的箭頭形狀的循跡標識；所述的B區(qū)域設(shè)有不同計量尺寸的第一矩陣陣列光柵和第二矩陣陣列光柵；所述的C區(qū)域設(shè)有不同計量尺寸的第一橫向刻度尺、第二橫向刻度尺、第三橫向刻度尺和第四橫向刻度尺，所述的C區(qū)域還設(shè)有四個等腰直角三角形形狀的循跡標識。所述A區(qū)域的向上的箭頭形狀的循跡標識實現(xiàn)了在測量前快速定位微納米標準樣板并確定樣板的正交掃描方向，便于快速定位B區(qū)域和C區(qū)域，并通過坐標關(guān)系實現(xiàn)重復(fù)性測量。