一種金屬件表面PVD鍍透明絕緣膜工藝

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010818319.0 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN111962025A 公開(kāi)（公告）日 2020-11-20
申請(qǐng)公布號(hào) CN111962025A 申請(qǐng)公布日 2020-11-20
分類號(hào) C23C14/16;C23C14/10;C23C14/08;C23C14/35 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 不公告發(fā)明人 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 昆山市恒鼎新材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 蘇州智品專利代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 昆山市恒鼎新材料有限公司
地址 215000 江蘇省蘇州市昆山市千燈鎮(zhèn)華濤路108號(hào)3號(hào)房
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種金屬件表面PVD鍍透明絕緣膜工藝，包含以下步驟：將鍍有顏色層的金屬件清洗后放入真空爐中，真空加熱烘干；對(duì)該金屬件進(jìn)行離子清洗；關(guān)閉氬氣和工件偏壓，控制真空爐內(nèi)真空度，使其內(nèi)真空度維持在10?1Pa數(shù)量級(jí)的動(dòng)態(tài)平衡壓強(qiáng)；控制真空爐內(nèi)溫度為100?300℃，采用真空平面磁控濺射法依次為金屬件鍍上Si/Al過(guò)渡層和氧化硅/氧化鋁透明絕緣層。本發(fā)明的一種金屬件表面PVD鍍透明絕緣膜工藝，采用物理氣相沉積的原理，以真空平面磁控濺射法，在原有鍍色金屬件的外部鍍上透明絕緣層，使金屬件表面即能滿足表面絕緣，又能滿足金屬件不同顏色的使用需求；且其工藝流程簡(jiǎn)單，環(huán)保，成本低。