一種3C鋁制件表面處理的PVD真空鍍膜工藝
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201911133009.9 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN112899625A | 公開(kāi)(公告)日 | 2021-06-04 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN112899625A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-06-04 |
分類號(hào) | C23C14/35;C23C14/16;C23C14/06 | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 不公告發(fā)明人 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 昆山市恒鼎新材料有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 蘇州智品專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 王利斌 |
地址 | 215000 江蘇省蘇州市昆山市千燈鎮(zhèn)華濤路108號(hào)3號(hào)房 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種3C鋁制件表面處理的PVD真空鍍膜工藝,包含以下步驟:將鋁制件清洗后放入真空室內(nèi)加熱烘干,隨后向真空室內(nèi)通入氬氣,對(duì)鋁制件進(jìn)行離子清洗;離子清洗后,關(guān)閉氬氣、輔助偏壓,調(diào)整真空室的真空度;向真空室內(nèi)通入氬氣使真空度維持在10?1Pa數(shù)量級(jí)的動(dòng)態(tài)平衡壓強(qiáng);依次為鋁制件鍍上Cr基層鍍層、CrN第一過(guò)渡層、CrSiN第二過(guò)渡層和Cr第三過(guò)渡層;完成鋁制件表面處理,此時(shí)鋁制件的顏色為銀色;換真空室,采用中頻電源作為濺射電源,以多弧離子鍍或真空平面磁控濺射鍍工藝為鋁制件鍍上顏色層。本發(fā)明采用物理氣相沉積原理對(duì)鋁制件表面處理,該工藝過(guò)制程短,生產(chǎn)無(wú)污染,環(huán)保安全,且能耗水耗低,良品率高。 |
