一種微波介質(zhì)陶瓷表面鍍銀的PVD工藝

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110200646.4 申請日 -
公開（公告）號 CN113005413A 公開（公告）日 2021-06-22
申請公布號 CN113005413A 申請公布日 2021-06-22
分類號 C23C14/35;C23C14/02;C23C14/18;C23C14/54 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 不公告發(fā)明人 申請（專利權(quán)）人 昆山市恒鼎新材料有限公司
代理機構(gòu) 蘇州智品專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 王利斌
地址 215000 江蘇省蘇州市昆山市千燈鎮(zhèn)華濤路108號3號房
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種微波介質(zhì)陶瓷表面鍍銀的PVD工藝，采用真空平面磁控濺射鍍膜，首先陶瓷件預(yù)處理清洗，進真空室加熱，并對真空室抽真空；然后真空室通入氬氣，進行離子清洗；最后對陶瓷件進行鍍膜，包括：關(guān)閉氬氣、輔助偏壓，在陶瓷件上鍍膜Cr層，形成打底層；在打底層上鍍膜Ag/Cu/Cr合金層，形成第一過渡層；在第一過渡層上鍍膜Ag/Cu合金層，形成第二過渡層；在第二過渡層上鍍膜Ag層，完成鍍銀。本發(fā)明的真空平面磁控濺射鍍膜工藝，原材料以惰性氣體和固體金屬靶材為主，在100?300℃溫環(huán)境下沉積金屬膜；本發(fā)明制程短、工藝制程簡單、工藝流程環(huán)保、成本低且單件產(chǎn)品能耗比低。