制備泡沫導(dǎo)電膜的卷繞式真空鍍膜機(jī)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN01225155.0 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN2487742Y 公開（公告）日 2002-04-24
申請(qǐng)公布號(hào) CN2487742Y 申請(qǐng)公布日 2002-04-24
分類號(hào) C23C14/34;C23C14/56 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 胡顯奇;盛鋼;夏登峰 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 深圳市電元新材料科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 518053廣東省深圳市華僑城東部工業(yè)區(qū)E5棟5樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型制備泡沫導(dǎo)電膜的卷繞式真空鍍膜機(jī),屬于用作制造氫鎳電池等電極基板泡沫鎳中對(duì)有機(jī)泡沫進(jìn)行導(dǎo)電化處理的真空鍍膜設(shè)備。該機(jī)的主要特征是真空箱體呈“回”字形結(jié)構(gòu);鍍膜室的兩側(cè)分別裝有一組磁控濺射靶,可以同時(shí)雙面均勻地制備出連續(xù)帶狀泡沫的導(dǎo)電膜,且膜層細(xì)密;以此作電鍍用陰極制得的泡沫鎳,具有較強(qiáng)的抗拉強(qiáng)度和較小的內(nèi)電阻。該機(jī)還可以實(shí)現(xiàn)電池電極基板其它卷材的磁控濺射鍍膜。