一種用于射線(xiàn)劑量測(cè)量的探測(cè)器矩陣裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202020137018.7 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN211698222U | 公開(kāi)（公告）日 | 2020-10-16 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN211698222U | 申請(qǐng)公布日 | 2020-10-16 |
| 分類(lèi)號(hào) | G01T1/185(2006.01)I;G01T1/02(2006.01)I | 分類(lèi) | - |
| 發(fā)明人 | 陳立新;胡強(qiáng);雷強(qiáng);黃欠平;何波 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 廣州瑞多思醫(yī)療科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 廣州新諾專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 廣州瑞多思醫(yī)療科技有限公司 |
| 地址 | 510663廣東省廣州市黃埔區(qū)科學(xué)大道33號(hào)自編五棟401（部位：401、403、405、407房） | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種用于射線(xiàn)劑量測(cè)量的探測(cè)器矩陣裝置，包括設(shè)置有多個(gè)電離室的電離室板和對(duì)稱(chēng)設(shè)置在所述電離室板兩側(cè)的上蓋板和下蓋板；所述電離室的中心到所述上蓋板遠(yuǎn)離所述電離室板的一面的等效水厚度，與所述電離室的中心到所述下蓋板遠(yuǎn)離所述電離室板的一面的等效水厚度相同。本實(shí)用新型通過(guò)對(duì)稱(chēng)設(shè)計(jì)，使得電離室中心至上下蓋板的等效水厚度保持一致，從而得到正反面一致的建成區(qū)，在加速器360度環(huán)繞照射下，能夠得到有效真實(shí)的數(shù)據(jù)，并不需要通過(guò)外部裝置或數(shù)據(jù)擬合得到反面照射數(shù)據(jù)，同時(shí)采用電離室探測(cè)器替代半導(dǎo)體探測(cè)器，使其解決半導(dǎo)體探測(cè)器長(zhǎng)期穩(wěn)定性差的問(wèn)題，保證劑量測(cè)量的準(zhǔn)確性。?? |
