一種像元級多光譜濾光片的制備方法
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN201910962992.9 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN110703375B | 公開（公告）日 | 2020-01-17 |
| 申請公布號 | CN110703375B | 申請公布日 | 2020-01-17 |
| 分類號 | G02B5/20(2006.01)I;G02B5/28(2006.01)I | 分類 | 光學(xué); |
| 發(fā)明人 | 楊海貴;張建;王笑夷;楊飛;張卓;高勁松 | 申請（專利權(quán)）人 | 長春長光辰譜科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 深圳市科進(jìn)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 曹衛(wèi)良 |
| 地址 | 130033吉林省長春市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)東南湖大路3888號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明提供了一種像元級多光譜濾光片的制備方法，包括：在基底上沉積具有良好光譜通帶特性的較厚寬帶通濾光膜堆；在帶通濾光膜堆上制備圖形化的金屬薄膜；在圖形化的金屬薄膜上干法刻蝕帶濾光膜堆，制備出一個(gè)陡峭的臺階狀光譜通道單元；重復(fù)以上步驟制備出其它數(shù)個(gè)光譜通道單元；最后去掉所有光譜通道單元上的金屬膜。本發(fā)明提供的像元級多光譜濾光片的制備方法，可以形成厚度為5?15微米較厚陣列式周期性排列的帶通濾光膜堆，有利于提高像元級多光譜濾光片光譜通道的通帶特性，利用了圖形化的金屬薄膜作為掩膜層和刻蝕停止層，阻止已形成的光譜通道單元免于刻蝕，降低制備過程中的陰影遮蔽效應(yīng)以保證通道單元外形尺寸完整性。?? |
