半導(dǎo)體器件及其制造方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201811085662.8 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN109192724B | 公開(公告)日 | 2019-01-11 |
申請公布號 | CN109192724B | 申請公布日 | 2019-01-11 |
分類號 | H01L27/02(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 不公告發(fā)明人 | 申請(專利權(quán))人 | 南京智悟智能科技有限責(zé)任公司 |
代理機構(gòu) | 深圳峰誠志合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 南京溧水高新創(chuàng)業(yè)投資管理有限公司 |
地址 | 210000江蘇省南京市溧水經(jīng)濟開發(fā)區(qū)柘塘街道福田路科創(chuàng)大廈 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種半導(dǎo)體器件及其制造方法,包括:第一導(dǎo)電類型的襯底;形成于所述襯底的上表面的第一導(dǎo)電類型的第一外延層;形成于所述第一外延層的部分上表面的第一導(dǎo)電類型的第二外延層;形成于所述第二外延層的上表面的第二導(dǎo)電類型的第三外延層;形成于所述第三外延層的上表面的第一導(dǎo)電類型的第四外延層;第一介質(zhì)層;第二導(dǎo)電類型的第一摻雜區(qū);形成于所述第一摻雜區(qū)的上表面的第一導(dǎo)電類型的第五外延層;第二介質(zhì)層;與所述第四外延層及所述第五外延層電連接的正面金屬層;與所述襯底電連接的背面金屬層。所述半導(dǎo)體器件具有雙向、低電容及缺陷少的特點。?? |
