一種具備散熱機構(gòu)的分布式基站
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201921322972.7 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN209994499U | 公開(公告)日 | 2020-01-24 |
申請公布號 | CN209994499U | 申請公布日 | 2020-01-24 |
分類號 | H04Q1/02;H04Q1/04;H04W88/08;H05K7/20 | 分類 | 電通信技術(shù); |
發(fā)明人 | 金良 | 申請(專利權(quán))人 | 航天神禾科技(北京)有限公司 |
代理機構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 100144 北京市石景山區(qū)八大處路49號院1號樓8層801室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型屬于基站設(shè)備領(lǐng)域,尤其是一種具備散熱機構(gòu)的分布式基站,針對現(xiàn)有的分布式基站多數(shù)采用風(fēng)機固定安裝的方式對處理設(shè)備進行散熱,吹風(fēng)覆蓋的面積小,基站和外部空氣的對流速度慢,散熱效果低的問題,現(xiàn)提出如下方案,其包括殼體,所述殼體上設(shè)有腔室,所述腔室的底部內(nèi)壁上固定安裝有處理設(shè)備,所述腔室的底部內(nèi)壁上滑動安裝有對稱設(shè)置的兩個安裝塊,所述處理設(shè)備位于兩個安裝塊之間,兩個安裝塊相互靠近的一側(cè)均固定安裝有風(fēng)機,且風(fēng)機在兩個安裝塊上呈中心點對稱設(shè)置,本實用新型加速腔室和外界空氣的對流速度,提升對處理設(shè)備的散熱效果,處理設(shè)備不會因溫度過高出現(xiàn)卡頓的現(xiàn)象。 |
