一種低彩虹紋聚酯薄膜及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910233756.3 申請日 -
公開（公告）號 CN109943027B 公開（公告）日 2021-04-20
申請公布號 CN109943027B 申請公布日 2021-04-20
分類號 C08G63/183(2006.01)I;C08G63/85(2006.01)I;C08L69/00(2006.01)I;C08G63/86(2006.01)I;C08J5/18(2006.01)I;C08K3/22(2006.01)I;C08L33/12(2006.01)I;B32B37/10(2006.01)I;C08L67/00(2006.01)I;C08K5/526(2006.01)I;B32B27/06(2006.01)I;C08L79/08(2006.01)I;C08L67/02(2006.01)I;B32B27/36(2006.01)I 分類 有機高分子化合物；其制備或化學加工；以其為基料的組合物;
發(fā)明人 李明勇;王強;李宇航;程凡寶;梁雪芬;徐正揚 申請（專利權）人 江蘇東材新材料有限責任公司
代理機構 北京一格知識產權代理事務所（普通合伙） 代理人 徐文
地址 226600江蘇省南通市海安縣城東鎮(zhèn)開發(fā)大道（中）28號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種低彩虹紋聚酯薄膜及其制備方法，所述低彩虹紋聚酯薄膜是由聚酯和表面改性料的混合料經熔融混煉后擠出、鑄片、再縱橫雙向拉伸、熱定型而制成；所述聚酯選用特性粘度為0.62～0.68dL/g、熔點為255～265℃、分子量為20000～30000的聚酯；所述表面改性料選用粘度為0.60～0.75dL/g的表面改性材料，且所述表面改性料由質量百分比0.2％～10％的納米材料和99.8％～90％的分子量為20000～30000的共聚酯組成。本發(fā)明的優(yōu)點在于：本發(fā)明生產工藝簡單，且制備出低彩虹紋薄膜具有良好的光學性能和優(yōu)異加工性能，尤其適用于各種光學顯示器件領域的導電膜、保護膜和離型膜等。??