一種提升勻膠工藝膠膜質(zhì)量的裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202120204343.5 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN214540377U 公開（公告）日 2021-10-29
申請(qǐng)公布號(hào) CN214540377U 申請(qǐng)公布日 2021-10-29
分類號(hào) G03F7/16（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 黃強(qiáng);?？?李天鵬;朱云彬 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 江蘇新順微電子股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 江陰市輕舟專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 孫燕波
地址 214400江蘇省無錫市江陰市高新區(qū)長山大道78號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及一種提升勻膠工藝膠膜質(zhì)量的裝置，屬于半導(dǎo)體光刻勻膠工藝技術(shù)領(lǐng)域。包括勻膠室本體，所述勻膠室本體內(nèi)設(shè)置膠盤，所述勻膠室本體內(nèi)腔設(shè)于豎向布置的勻膠主軸，且所述勻膠主軸穿設(shè)膠盤，所述勻膠主軸頂端設(shè)置用于吸附硅片的吸盤，所述吸盤外側(cè)圍設(shè)擋圈，所述擋圈固定于膠盤上；所述勻膠室本體內(nèi)活動(dòng)設(shè)有可調(diào)式噴嘴單元，所述可調(diào)式噴嘴單元能夠向硅片背面靠近或遠(yuǎn)離，對(duì)硅片背面的殘膠進(jìn)行清理。本申請(qǐng)能夠有效阻擋硅片在高速旋轉(zhuǎn)時(shí)甩出的光刻膠回濺到硅片正、背面，提高了膠膜質(zhì)量。手動(dòng)調(diào)節(jié)噴嘴噴射角度，噴嘴調(diào)至特定的角度后移動(dòng)至既定位置，噴嘴噴出的液劑對(duì)硅片背面的殘膠進(jìn)行清潔，便于清理硅片背面的殘膠。