用于氣浮池體的沉淀斗
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202021205980.6 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN212669378U | 公開(公告)日 | 2021-03-09 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN212669378U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-03-09 |
分類號(hào) | C02F1/52(2006.01)I;C02F9/02(2006.01)I;C02F1/24(2006.01)I | 分類 | 水、廢水、污水或污泥的處理; |
發(fā)明人 | 華先焱;于濤;胡婷婷;廉立人;韓勇濤;羅延寶 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 戈潤(rùn)(寧波)環(huán)??萍加邢薰?/a> |
代理機(jī)構(gòu) | 無(wú)錫市匯誠(chéng)永信專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 石來(lái)杰 |
地址 | 315500浙江省寧波市奉化區(qū)江口街道匯明路98號(hào)(經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)千創(chuàng)園8-2號(hào))(自主申報(bào)) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型公開一種用于氣浮池體的沉淀斗,包括沉淀斗主體,沉淀斗主體頂部固定有導(dǎo)流板,導(dǎo)流板內(nèi)壁上固定有螺旋葉片,沉淀斗主體頂部為進(jìn)入口,沉淀斗主體包括位于上部的圓柱部分和位于下部的圓錐部分,圓錐部分內(nèi)放置有沉淀體,沉淀體頂端為斜面,且由外至內(nèi)的半徑依次降低,沉淀體頂部圓周側(cè)開設(shè)有穿孔,旋轉(zhuǎn)葉片能夠使得液體進(jìn)入沉淀斗內(nèi)順暢,在液體進(jìn)入沉淀斗后可以將導(dǎo)流板摘除,隨后進(jìn)行沉淀反應(yīng),在沉淀后,顆粒物質(zhì)都在沉淀體底部,由于沉淀體為錐形,在通過(guò)提拉把手將他提起的時(shí)候位于沉淀體內(nèi)頂部的清水會(huì)隨著穿孔向外流出,這樣能夠給位于沉淀體底部的殘?jiān)粋€(gè)向下的力,防止殘?jiān)譁啙嵘蠈忧逅?? |
