一種計算光刻建模方法及裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910385455.2 申請日 -
公開（公告）號 CN110262191B 公開（公告）日 2021-06-08
申請公布號 CN110262191B 申請公布日 2021-06-08
分類號 G03F7/20;G06F30/20 分類 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術〔4〕;
發(fā)明人 崔紹春 申請（專利權）人 墨研計算科學（南京）有限公司
代理機構 北京弘權知識產(chǎn)權代理有限公司 代理人 逯長明;許偉群
地址 210000 江蘇省南京市江北新區(qū)星火路9號軟件大廈B座407-80室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請涉及集成電路制造技術領域，公開了一種計算光刻建模方法及裝置，在該方法中，通過獲取測試圖形包含的圖形單元的類型，確定光學模塊組，然后根據(jù)光學模塊組，獲取物理光學模型的參數(shù)。計算光學模塊組在光刻膠上的理想光強分布，并根據(jù)理想光強分布以及光學模塊組在所述光刻膠上激發(fā)的光化學反應，獲取光化學模型的參數(shù)。接著模擬測試圖形在所述光刻膠上形成的邊界位置，并獲取所述測試圖形的關鍵尺寸仿真數(shù)據(jù)，若關鍵尺寸測量數(shù)據(jù)與關鍵尺寸仿真數(shù)據(jù)之間的擬合誤差不大于預設的容許誤差，則建立計算光刻模型。本申請公開的計算光刻建模方法，通過建立不同的光學模塊對不同的圖形單元進行仿真，有效提高了計算光刻模型的精度。