一種計(jì)算光刻建模方法及裝置
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201910385455.2 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN110262191A | 公開(公告)日 | 2021-06-08 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN110262191A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-06-08 |
分類號(hào) | G03F7/20;G06F17/50 | 分類 | 攝影術(shù);電影術(shù);利用了光波以外其他波的類似技術(shù);電記錄術(shù);全息攝影術(shù)〔4〕; |
發(fā)明人 | 崔紹春 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 墨研計(jì)算科學(xué)(南京)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京弘權(quán)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 逯長明;許偉群 |
地址 | 215000 江蘇省蘇州市姑蘇區(qū)友聯(lián)新村74-407 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請(qǐng)涉及集成電路制造技術(shù)領(lǐng)域,公開了一種計(jì)算光刻建模方法及裝置,在該方法中,通過獲取測試圖形包含的圖形單元的類型,確定光學(xué)模塊組,然后根據(jù)光學(xué)模塊組,獲取物理光學(xué)模型的參數(shù)。計(jì)算光學(xué)模塊組在光刻膠上的理想光強(qiáng)分布,并根據(jù)理想光強(qiáng)分布以及光學(xué)模塊組在所述光刻膠上激發(fā)的光化學(xué)反應(yīng),獲取光化學(xué)模型的參數(shù)。接著模擬測試圖形在所述光刻膠上形成的邊界位置,并獲取所述測試圖形的關(guān)鍵尺寸仿真數(shù)據(jù),若關(guān)鍵尺寸測量數(shù)據(jù)與關(guān)鍵尺寸仿真數(shù)據(jù)之間的擬合誤差不大于預(yù)設(shè)的容許誤差,則建立計(jì)算光刻模型。本申請(qǐng)公開的計(jì)算光刻建模方法,通過建立不同的光學(xué)模塊對(duì)不同的圖形單元進(jìn)行仿真,有效提高了計(jì)算光刻模型的精度。 |
