一種實(shí)驗(yàn)室用真空涂布臺(tái)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202020761061.0 申請(qǐng)日 -
公開(公告)號(hào) CN212238024U 公開(公告)日 2020-12-29
申請(qǐng)公布號(hào) CN212238024U 申請(qǐng)公布日 2020-12-29
分類號(hào) B05C11/00(2006.01)I;B05D3/04(2006.01)I 分類 一般噴射或霧化;對(duì)表面涂覆液體或其他流體的一般方法〔2〕;
發(fā)明人 徐力;崔慶瓏 申請(qǐng)(專利權(quán))人 威士達(dá)半導(dǎo)體科技(張家港)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 蘇州啟華專利代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 徐偉華
地址 215634江蘇省蘇州市張家港保稅區(qū)港澳路15號(hào)(威士達(dá))
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種實(shí)驗(yàn)室用真空涂布臺(tái),包括機(jī)架、沿前后方向安裝在機(jī)架上的涂布臺(tái)、安裝在涂布臺(tái)上的線棒,所述涂布臺(tái)以其前端的寬邊為支撐邊旋轉(zhuǎn)的安裝在所述機(jī)架上,涂布時(shí),涂布臺(tái)的后端翹起,涂布臺(tái)的臺(tái)面與水平面間呈一銳角設(shè)置,所述涂布臺(tái)內(nèi)設(shè)置有真空腔,涂布臺(tái)的臺(tái)面上設(shè)置有若干與所述真空腔內(nèi)腔相通的真空孔洞,所有所述真空孔洞沿臺(tái)面的邊緣一周間隔分布,所述真空孔洞的大小控制在5mm±0.5mm間,相鄰兩個(gè)所述真空孔洞間的間距控制在10mm±1mm間。該涂布臺(tái)模擬實(shí)際涂布情況,測(cè)試數(shù)據(jù)與實(shí)際涂布機(jī)的涂布數(shù)據(jù)更為接近,從而使得實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)更具參考性。??