鍍膜方法及鍍膜件
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010099554.7 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN111321583A | 公開（公告）日 | 2020-06-23 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111321583A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-06-23 |
| 分類號(hào) | D06M10/02(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 蘇建華;云洋 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 深圳奧攔科技有限責(zé)任公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 深圳奧攔科技有限責(zé)任公司;利亞德光電股份有限公司 |
| 地址 | 518101廣東省深圳市寶安區(qū)西鄉(xiāng)街道龍珠社區(qū)潤(rùn)東晟工業(yè)園11棟1層B | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明涉及一種鍍膜方法。包括以下步驟：步驟S100、將基體置于鍍膜室內(nèi)，基體由具有透氣孔的透氣材料制成；步驟S200、對(duì)所述鍍膜室抽真空使壓強(qiáng)降低到15pa以下；步驟S300、向所述鍍膜室通入工藝氣體，并保持壓強(qiáng)為10pa～50pa；步驟S400、在所述鍍膜室內(nèi)施加射頻交流電，并保持一段時(shí)間；步驟S500、關(guān)閉所述射頻交流電、停止通入所述工藝氣體，并對(duì)所述鍍膜室抽真空使壓強(qiáng)降低至15pa以下；步驟S600、向所述鍍膜室通入空氣使壓強(qiáng)大于或等于1個(gè)大氣壓，取出表面形成有疏水層的所述基體。一種鍍膜件，包括：基體，基體為具有透氣孔的透氣材料制成；以及疏水層，至少附著于所述基體的一個(gè)表面，疏水層由四氟甲烷、六氟丙烯、八氟環(huán)丁烷和對(duì)二甲苯的一種或多種制成。?? |
