用于提高非制冷紅外焦平面陣列器件性能的制作方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN200510090179.5 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN100387509C | 公開(kāi)（公告）日 | 2008-05-14 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN100387509C | 申請(qǐng)公布日 | 2008-05-14 |
| 分類號(hào) | B81C1/00(2006.01);B81B7/00(2006.01);H01L21/00(2006.01);G01K7/00(2006.01) | 分類 | 微觀結(jié)構(gòu)技術(shù)〔7〕; |
| 發(fā)明人 | 石莎莉;陳大鵬;李超波;焦斌斌;歐毅;葉甜春 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 杭州紅芯電子有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 | 代理人 | 湯保平 |
| 地址 | 100029北京市朝陽(yáng)區(qū)北土城西路3號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 一種用于提高非制冷紅外焦平面陣列器件性能的制作方 |
