鍵合氮化鋁陶瓷襯底異面電極VCSEL芯片及其制作方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202111210066.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114204402A | 公開(公告)日 | 2022-03-18 |
申請公布號 | CN114204402A | 申請公布日 | 2022-03-18 |
分類號 | H01S5/02(2006.01)I;H01S5/024(2006.01)I;H01S5/042(2006.01)I;H01S5/183(2006.01)I;H01S5/30(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 詹健龍;徐春朝;姜昆;郭飛 | 申請(專利權(quán))人 | 浙江焜騰紅外科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 嘉興啟帆專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 程開生 |
地址 | 314000浙江省嘉興市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)昌盛南路36號嘉興智慧產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新園10號樓104室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了鍵合氮化鋁陶瓷襯底異面電極VCSEL芯片及其制作方法,VCSEL芯片包括有氮化鋁陶瓷層,氮化鋁陶瓷層的上下端面分別設(shè)有N電極,上端面的N電極上設(shè)有若干N?DBR,N?DBR分為上半部分和下半部分,所有N?DBR的下半部分相連,相鄰N?DBR的上半部分之間具有間隙,N?DBR的上半部分上端分別設(shè)有P?DBR,P?DBR與上半部分之間設(shè)有諧振腔層,P?DBR的上端設(shè)有隔離緩沖層,隔離緩沖層的上端設(shè)有P電極,氮化鋁陶瓷層上端面的N電極與下端面的N電極通過N電極導(dǎo)通柱連接。本發(fā)明的VCSEL芯片相比于傳統(tǒng)VCSEL芯片,去除了全部GaAs襯底,用氮化鋁陶瓷直接與外延層鍵合,提升了VCSEL芯片的散熱效果。避免了由芯片尺寸增加,襯底減薄導(dǎo)致的一系列問題。 |
