一種采用正交去耦單元對技術(shù)的手線圈
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202020805168.0 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN212514976U | 公開(公告)日 | 2021-02-09 |
申請公布號 | CN212514976U | 申請公布日 | 2021-02-09 |
分類號 | G01R33/34(2006.01)I | 分類 | 測量;測試; |
發(fā)明人 | 朱華彬 | 申請(專利權(quán))人 | 蘇州眾志醫(yī)療科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 蘇州維進(jìn)專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 程東輝 |
地址 | 215000江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)若水路398號蘇州納米所F棟6單元3樓 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請公開了一種采用正交去耦單元對技術(shù)的手線圈,包括若干組線圈單元對,每組線圈單元對均由一個手心側(cè)線圈單元和一個手背側(cè)線圈單元共兩個線圈單元構(gòu)成,并且每組線圈單元對中的兩個線圈單元,其中一個線圈單元為“0”字型線圈單元,另一個線圈單元為“8”字型線圈單元,“8”字型線圈單元交叉處的兩條線圈段相互絕緣布置;每組線圈單元對中,環(huán)形線圈單元在手掌厚度方向的投影面積均與“8”字型線圈單元在手掌厚度方向的投影面積部分重疊。本申請能夠優(yōu)化手心側(cè)線圈單元和手背側(cè)線圈單元間的耦合干擾問題,從而提升手掌的磁共振成像質(zhì)量。?? |
