一種激光熔覆寬帶送粉嘴和激光熔覆裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111265718.X 申請日 -
公開（公告）號 CN114032541A 公開（公告）日 2022-02-11
申請公布號 CN114032541A 申請公布日 2022-02-11
分類號 C23C24/10（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 劉昌勇;柳潔;李春旺;張煒 申請（專利權(quán)）人 武漢武鋼華工激光大型裝備有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京匯澤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 吳靜
地址 430223湖北省武漢市東湖高新技術(shù)開發(fā)區(qū)華中科技大學(xué)科技園激光產(chǎn)業(yè)園區(qū)三路
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種激光熔覆寬帶送粉嘴和激光熔覆裝置，包括：送粉本體；設(shè)置在所述送粉本體內(nèi)的送粉管路；以及，與所述送粉本體固定連接的粉管接頭；其中，所述送粉管路具有多個管路出口，多個管路出口與所述粉管接頭連通。由于所述送粉管路具有多個管路出口，多個管路出口與所述粉管接頭連通，因此可通過所述送粉管路對所述送粉管路內(nèi)的粉末進(jìn)行分流，使粉末在送粉管路內(nèi)均勻流動，并在管路出口處形成多股厚薄一致，速度均勻的粉末流，從而使得工件表面的粉末厚度一致，避免送粉嘴送粉不均勻?qū)е氯鄹采把酆头勰├速M(fèi)等問題。