數(shù)組襯底的制造方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201811312197.7 申請日 -
公開（公告）號 CN111211136A 公開（公告）日 2020-05-29
申請公布號 CN111211136A 申請公布日 2020-05-29
分類號 H01L27/12;H01L21/77 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 陸富財;王豪;余彥霖;邱奕勛 申請（專利權(quán)）人 中華映管股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 吳志紅;臧建明
地址 中國臺灣桃園市龍?zhí)秴^(qū)華映路1號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種數(shù)組襯底的制造方法，包括以下步驟。形成主動組件于襯底上。形成第一絕緣層于所述主動組件上。形成共通電極層于所述第一絕緣層上。形成第二絕緣層于所述共通電極層上。在所述第一絕緣層以及所述第二絕緣層中形成第一接觸窗，以暴露出部分的所述主動組件。形成導(dǎo)電層于所述第二絕緣層上，其中所述導(dǎo)電層填入于所述第一接觸窗中。形成第三絕緣層于所述導(dǎo)電層上。在第三絕緣層中形成第二接觸窗以暴露出部分的所述導(dǎo)電層。形成像素電極層于所述第三絕緣層上，其中所述像素電極層填入于所述第二接觸窗中。本發(fā)明提供的數(shù)組襯底的制造方法可確保像素電極層與主動組件電性連接而提升良率。