數(shù)組襯底的制造方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201811312197.7 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN111211136A 公開（公告）日 2020-05-29
申請(qǐng)公布號(hào) CN111211136A 申請(qǐng)公布日 2020-05-29
分類號(hào) H01L27/12;H01L21/77 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 陸富財(cái);王豪;余彥霖;邱奕勛 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 中華映管股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 吳志紅;臧建明
地址 中國(guó)臺(tái)灣桃園市龍?zhí)秴^(qū)華映路1號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種數(shù)組襯底的制造方法，包括以下步驟。形成主動(dòng)組件于襯底上。形成第一絕緣層于所述主動(dòng)組件上。形成共通電極層于所述第一絕緣層上。形成第二絕緣層于所述共通電極層上。在所述第一絕緣層以及所述第二絕緣層中形成第一接觸窗，以暴露出部分的所述主動(dòng)組件。形成導(dǎo)電層于所述第二絕緣層上，其中所述導(dǎo)電層填入于所述第一接觸窗中。形成第三絕緣層于所述導(dǎo)電層上。在第三絕緣層中形成第二接觸窗以暴露出部分的所述導(dǎo)電層。形成像素電極層于所述第三絕緣層上，其中所述像素電極層填入于所述第二接觸窗中。本發(fā)明提供的數(shù)組襯底的制造方法可確保像素電極層與主動(dòng)組件電性連接而提升良率。