一種輻照裝置源架

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202120564393.4 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)(公告)號(hào) CN214588062U 公開(kāi)(公告)日 2021-11-02
申請(qǐng)公布號(hào) CN214588062U 申請(qǐng)公布日 2021-11-02
分類(lèi)號(hào) G21F5/015(2006.01)I;G21K5/00(2006.01)I 分類(lèi) 核物理;核工程;
發(fā)明人 黃偉;孫春濤;湯玉山;王建春 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 中金輻照重慶有限公司
代理機(jī)構(gòu) 重慶啟恒騰元專(zhuān)利代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 萬(wàn)建
地址 401520重慶市合川區(qū)合川工業(yè)園區(qū)核心片區(qū)巴州路
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及輻照設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,公開(kāi)了一種輻照裝置源架,包括框架,所述框架內(nèi)設(shè)有若干被隔板隔成的柵格,所述柵格中部的上下兩個(gè)隔板上轉(zhuǎn)動(dòng)安裝有門(mén)架軸,所述門(mén)架軸的外側(cè)固定連接有門(mén)架,所述門(mén)架的兩側(cè)安裝有門(mén)扣,所述門(mén)架的后端面可拆卸地安裝有模塊架,所述模塊架上設(shè)有若干放置所述源棒的鈷源安裝孔,所述框架的外側(cè)安裝有防撞機(jī)構(gòu),所述防撞機(jī)構(gòu)包括設(shè)置在所述框架的左右兩側(cè)的防撞立柱,所述防撞立柱的前端面和后端面分別開(kāi)設(shè)有第一凹槽,兩個(gè)所述第一凹槽內(nèi)分別滑動(dòng)連接有防撞板,所述防撞板伸至所述第一凹槽內(nèi),所述防撞立柱與所述框架之間設(shè)有緩沖機(jī)構(gòu)。本實(shí)用新型可以提高源架使用的安全性。