一種改善刻蝕水印的裝置及刻蝕機

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110729439.8 申請日 -
公開（公告）號 CN113451442A 公開（公告）日 2021-09-28
申請公布號 CN113451442A 申請公布日 2021-09-28
分類號 H01L31/18（2006.01）I;H01L21/306（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 周翔;雷佳;黃明;邵輝良;祝春華 申請（專利權）人 上饒捷泰新能源科技有限公司
代理機構 北京集佳知識產(chǎn)權代理有限公司 代理人 豆貝貝
地址 330000江西省上饒市上饒經(jīng)濟開發(fā)區(qū)興業(yè)大道8號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種改善刻蝕水印的裝置及刻蝕機，改善刻蝕水印裝置，包括設置在刻蝕機臺用于承載晶片的滾輪，所述滾輪包括旋轉(zhuǎn)軸以及設置在所述旋轉(zhuǎn)軸表面的螺紋結構。通過將現(xiàn)有的臺階型滾輪設計為具有螺紋結構的滾輪，用于承載晶片時，可以減少水的吸附，改善水印的效果。進而提高產(chǎn)品效率/良率，降低化學品耗量，節(jié)約生產(chǎn)成本。