一種用于熒光分析儀的光斑整形光學系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201610660308.8 申請日 -
公開（公告）號 CN107561042A 公開（公告）日 2018-01-09
申請公布號 CN107561042A 申請公布日 2018-01-09
分類號 G01N21/64(2006.01)I;G02B27/09(2006.01)I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 楊征;邱夢春;林吉君 申請（專利權）人 杭州凱珥醫(yī)療科技有限公司
代理機構 - 代理人 -
地址 310018 浙江省杭州市經濟技術開發(fā)區(qū)6號大街452號2幢D2212
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種光學系統(tǒng)，用于對位于檢測區(qū)的物質進行熒光分析，包括：光源，用于發(fā)出入射光；光斑整形透鏡，用于將所述入射光進行光斑整形，形成與所述檢測區(qū)形狀相匹配的檢測光斑；所述檢測光斑投射至檢測區(qū)，激發(fā)檢測區(qū)的熒光物質形成熒光；熒光接收光路，用于接收并感測所述熒光。本發(fā)明中光源發(fā)出的大部分光可以透過光斑整形透鏡進而到達檢測區(qū)，提高了光源的光利用率，在同等光源發(fā)光條件下，與對入射光進行遮擋的方案相比，本發(fā)明實際到達檢測區(qū)的光強更強，可以有效提高熒光分析儀的靈敏度。