一種雙回程均料加熱盤(pán)組
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202021352442.X | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN212806432U | 公開(kāi)(公告)日 | 2021-03-26 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN212806432U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-03-26 |
分類(lèi)號(hào) | F26B25/18(2006.01)I;F26B25/00(2006.01)I;F26B23/00(2006.01)I;F26B25/04(2006.01)I;F26B17/28(2006.01)I | 分類(lèi) | 干燥; |
發(fā)明人 | 張磊;鄧東葵;邸倩倩 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 | 石家莊工大化工設(shè)備有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 石家莊眾志華清知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 張明月 |
地址 | 050031河北省石家莊市長(zhǎng)安區(qū)和平東路498-1號(hào)工大科技樓 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種回程均料加熱盤(pán)組,包括多個(gè)設(shè)置于盤(pán)式干燥器內(nèi)部的小加熱盤(pán)和大加熱盤(pán)且小加熱盤(pán)和大加熱盤(pán)沿豎直方向交替設(shè)置,多個(gè)所述大加熱盤(pán)上均布開(kāi)有多個(gè)位置半徑為R2的落料孔,物料落到小加熱盤(pán)的受料位置半徑為r2且r2=R2,所述小加熱盤(pán)以受料位置半徑r2為界分為內(nèi)料環(huán)和外料環(huán),所述大加熱盤(pán)以落料孔位置半徑R2為界分為內(nèi)料環(huán)和外料環(huán),大加熱盤(pán)的內(nèi)、外沿均設(shè)置有擋料環(huán),本實(shí)用新型中物料在雙回程均料加熱盤(pán)組上的料層較薄,布料均勻,不產(chǎn)生物料短路或堆積現(xiàn)象,物料產(chǎn)品的含濕量均勻穩(wěn)定,提高物料產(chǎn)品的合格率。?? |
