一種功率半導(dǎo)體器件
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201920274948.4 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN209461471U | 公開(公告)日 | 2019-10-01 |
申請公布號 | CN209461471U | 申請公布日 | 2019-10-01 |
分類號 | H01L29/872;H01L29/06;H01L21/329 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 李述洲;晉虎;孫永生;高良 | 申請(專利權(quán))人 | 重慶平偉實(shí)業(yè)股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海光華專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 重慶平偉實(shí)業(yè)股份有限公司;嘉興奧羅拉電子科技有限公司 |
地址 | 405200 重慶市梁平縣梁平工業(yè)園區(qū) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型提供一種功率半導(dǎo)體器件,包括:襯底以及依次堆疊在所述襯底上的第一摻雜層、肖特基勢壘層、金屬層;所述第一摻雜層包括多個(gè)柵極,每個(gè)所述柵極的兩側(cè)均包括第二摻雜層,具有第二摻雜層的功率半導(dǎo)體器件的峰值電場強(qiáng)度較低,使得臺面的峰值電場值得以降低,因此能夠抑制所述功率半導(dǎo)體器件的反向漏電流;另一方面,所述功率半導(dǎo)體器件在承受大電流沖擊的過程中,第二摻雜層與第一摻雜層形成的PN結(jié)將導(dǎo)通,與肖特基勢壘層相比,第二摻雜層能夠承受更大的正向電流密度,因此能夠承受更大的電流浪涌沖擊,提高所述功率半導(dǎo)體器件的性能、使用可靠性以及使用壽命。 |
