確定測量模式和光學(xué)系統(tǒng)參數(shù)容差的方法和裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201410542475.3 申請日 -
公開（公告）號 CN105571484B 公開（公告）日 2018-07-06
申請公布號 CN105571484B 申請公布日 2018-07-06
分類號 G01B11/00;G06F17/30;B82Y35/00 分類 測量；測試;
發(fā)明人 王鑫;張振生;施耀明;徐益平 申請（專利權(quán)）人 上海興橙投資管理有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京漢昊知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 睿勵科學(xué)儀器（上海）有限公司
地址 201203 上海市浦東新區(qū)張江高科技園區(qū)華佗路68號6幢
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種用于確定OCD測量中的光學(xué)系統(tǒng)參數(shù)容差的方案，其中，對于多個測量模式中的每一個測量模式所對應(yīng)的歸一化的信號偏移量；并從所述多個測量模式中選擇所對應(yīng)的歸一化的信號偏移量最大的測量模式，作為最佳測量模式；并根據(jù)最佳測量模式所對應(yīng)的未歸一化的信號偏移量，確定所述光學(xué)系統(tǒng)參數(shù)容差。根據(jù)本實(shí)施例的方法，可以確定滿足各個結(jié)構(gòu)參數(shù)測量靈敏度和精確度需求的最佳測量模式，并確定各個光學(xué)系統(tǒng)參數(shù)容差，從而提高測量的靈敏度和精確度。