用于光學關鍵尺寸測量的方法及裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201410234193.7 申請日 -
公開（公告）號 CN105444666B 公開（公告）日 2018-05-25
申請公布號 CN105444666B 申請公布日 2018-05-25
分類號 G01B11/00;G01B11/24 分類 測量；測試;
發(fā)明人 王鑫;施耀明;張振生;徐益平 申請（專利權）人 上海興橙投資管理有限公司
代理機構 北京市金杜律師事務所 代理人 睿勵科學儀器（上海）有限公司
地址 201203 上海市浦東新區(qū)華佗路68號張江創(chuàng)業(yè)園6幢
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明描述了一種在光學關鍵尺寸(OCD)測量設備中的提升光譜曲線匹配可靠性和測量精確度的方法及裝置。其包括對各個待測結構參數(shù)在全體波長點的理論光譜進行靈敏度分析并獲取靈敏度隨波長分布；對各個待測結構參數(shù)的靈敏度隨波長分布進行歸一化處理；靈活設置統(tǒng)化權重系數(shù)并對所述歸一化的靈敏度隨波長分布進行統(tǒng)化處理；在理論光譜與測量光譜的匹配過程中在每個波長點設置匹配權重系數(shù)并對理論光譜與測量光譜進行評價優(yōu)化操作以判定兩者的匹配程度；這樣，實現(xiàn)了匹配評價的優(yōu)化設計并達到了待測結構參數(shù)擬合值精確度的提升。