背接觸異質(zhì)結(jié)電池及其制備方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111175013.9 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN113964229A | 公開(公告)日 | 2022-01-21 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN113964229A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-01-21 |
分類號(hào) | H01L31/0747(2012.01)I;H01L31/0224(2006.01)I;H01L31/0216(2014.01)I;H01L31/18(2006.01)I;H01L31/20(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 王偉;趙曉霞;田宏波;王雪松;王彩霞;宗軍;范霽紅;孫金華 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 國家電投集團(tuán)新能源科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 蔣松 |
地址 | 102209 北京市昌平區(qū)未來科技城國家電投集團(tuán)科學(xué)技術(shù)研究院有限公司院內(nèi)A座8層至11層 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種背接觸異質(zhì)結(jié)電池及其制備方法。所述背接觸異質(zhì)結(jié)電池包括:n型單晶硅襯底;依次設(shè)置于所述n型單晶硅襯底上表面的第一鈍化層和減反射層;設(shè)置于所述n型單晶硅襯底下表面的第二鈍化層;設(shè)置于所述第二鈍化層下表面的局域n型硅基薄膜;設(shè)置于所述局域n型硅基薄膜下表面和所述第二鈍化層下表面的除所述局域n型薄膜以外區(qū)域的p型硅基薄膜;依次設(shè)置于所述p型硅基薄膜下表面的TCO薄膜和金屬電極。因此,根據(jù)發(fā)明實(shí)施例的背接觸異質(zhì)結(jié)電池具有制備工藝簡(jiǎn)單和生產(chǎn)成本低的優(yōu)點(diǎn)。 |
