一種生成二維光場(chǎng)圖像的方法、裝置和計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201910506554.1 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN112087618A | 公開（公告）日 | 2020-12-15 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112087618A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-12-15 |
| 分類號(hào) | H04N13/32(2018.01)I;H04N13/275(2018.01)I | 分類 | 電通信技術(shù); |
| 發(fā)明人 | 陳志強(qiáng);惠新標(biāo) | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 上海麥界信息技術(shù)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 上海麥界信息技術(shù)有限公司 |
| 地址 | 201204上海市浦東新區(qū)中國(guó)（上海）自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)畢升路289弄2號(hào)202室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明涉及一種生成二維光場(chǎng)圖像的方法，所述二維光場(chǎng)圖像用于配合點(diǎn)光源陣列呈現(xiàn)虛擬三維模型的立體光場(chǎng)，所述方法包括以下步驟：獲取所述立體光場(chǎng)的目標(biāo)物像分辨率D1、所述點(diǎn)光源陣列與待生成的二維光場(chǎng)圖像的設(shè)計(jì)距離S、所述立體光場(chǎng)的目標(biāo)可視角度θ以及所述二維光場(chǎng)圖像的目標(biāo)圖像分辨率D2；確定所述二維光場(chǎng)圖像所在的二維圖像面的幾何參數(shù)；根據(jù)所述目標(biāo)物像分辨率D1將所述二維圖像面劃分為物像網(wǎng)格陣列；標(biāo)定所述虛擬三維模型與對(duì)應(yīng)所述點(diǎn)光源陣列的虛擬點(diǎn)光源陣列的相對(duì)位置；以及將所述虛擬三維模型在所述目標(biāo)可視角度θ內(nèi)經(jīng)所述虛擬點(diǎn)光源陣列投影到所述二維圖像面的物像網(wǎng)格陣列上，獲得所述二維光場(chǎng)圖像。?? |
