一種PI蝕刻液電解再生系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202022722802.7 申請日 -
公開（公告）號 CN213739697U 公開（公告）日 2021-07-20
申請公布號 CN213739697U 申請公布日 2021-07-20
分類號 C23F1/46（2006.01）I;C25B1/00（2021.01）I;C25B9/00（2021.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 方磊;楊潔;孫彬;沈洪;李曉華 申請（專利權(quán)）人 上達(dá)電子（深圳）股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 徐州市三聯(lián)專利事務(wù)所 代理人 張帥
地址 518100廣東省深圳市寶安區(qū)沙井街道黃埔社區(qū)南環(huán)路黃埔潤和工業(yè)園A棟廠房1-4層、D棟2-3層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及一種PI蝕刻液電解再生系統(tǒng)，屬于蝕刻液電解技術(shù)領(lǐng)域。包括PI蝕刻液儲槽、泵、過濾器和電解再生裝置，所述的過濾器設(shè)置在PI蝕刻液儲槽底部循環(huán)PI蝕刻液儲槽內(nèi)的PI蝕刻液，所述的電解再生裝置設(shè)置在PI蝕刻液儲槽的一側(cè)，電解再生裝置與PI蝕刻液儲槽相通，PI蝕刻液儲槽內(nèi)的PI蝕刻液從PI蝕刻液儲槽的槽體底部通過泵抽至電解再生裝置內(nèi)，電解再生裝置電解再生后將PI蝕刻液再抽回PI蝕刻液儲槽。本實用新型的有益效果是：本實用新型通過電解再生裝置，提高藥液中高錳酸根離子濃度，延長藥液壽命，節(jié)省藥水成本；減少藥液使用，將產(chǎn)生的無用成分回收利用，減少廢液產(chǎn)生，減少環(huán)境污染，降低廢水處理成本。