一種PI蝕刻液電解再生系統(tǒng)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202022722802.7 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN213739697U | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-07-20 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN213739697U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-07-20 |
| 分類(lèi)號(hào) | C23F1/46（2006.01）I;C25B1/00（2021.01）I;C25B9/00（2021.01）I | 分類(lèi) | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 方磊;楊潔;孫彬;沈洪;李曉華 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 上達(dá)電子（深圳）股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 徐州市三聯(lián)專(zhuān)利事務(wù)所 | 代理人 | 張帥 |
| 地址 | 518100廣東省深圳市寶安區(qū)沙井街道黃埔社區(qū)南環(huán)路黃埔潤(rùn)和工業(yè)園A棟廠房1-4層、D棟2-3層 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型涉及一種PI蝕刻液電解再生系統(tǒng)，屬于蝕刻液電解技術(shù)領(lǐng)域。包括PI蝕刻液儲(chǔ)槽、泵、過(guò)濾器和電解再生裝置，所述的過(guò)濾器設(shè)置在PI蝕刻液儲(chǔ)槽底部循環(huán)PI蝕刻液儲(chǔ)槽內(nèi)的PI蝕刻液，所述的電解再生裝置設(shè)置在PI蝕刻液儲(chǔ)槽的一側(cè)，電解再生裝置與PI蝕刻液儲(chǔ)槽相通，PI蝕刻液儲(chǔ)槽內(nèi)的PI蝕刻液從PI蝕刻液儲(chǔ)槽的槽體底部通過(guò)泵抽至電解再生裝置內(nèi)，電解再生裝置電解再生后將PI蝕刻液再抽回PI蝕刻液儲(chǔ)槽。本實(shí)用新型的有益效果是：本實(shí)用新型通過(guò)電解再生裝置，提高藥液中高錳酸根離子濃度，延長(zhǎng)藥液壽命，節(jié)省藥水成本；減少藥液使用，將產(chǎn)生的無(wú)用成分回收利用，減少?gòu)U液產(chǎn)生，減少環(huán)境污染，降低廢水處理成本。 |
