一種屏下指紋識別光電保護膜及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201811542263.X 申請日 -
公開（公告）號 CN111320944A 公開（公告）日 2020-06-23
申請公布號 CN111320944A 申請公布日 2020-06-23
分類號 C09J7/29(2018.01)I 分類 -
發(fā)明人 金國華 申請（專利權(quán)）人 浙江欣麟新材料技術(shù)有限公司
代理機構(gòu) 宿遷市永泰睿博知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 浙江欣麟新材料技術(shù)有限公司
地址 321102浙江省金華市蘭溪經(jīng)濟開發(fā)區(qū)創(chuàng)業(yè)大道13號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種屏下指紋識別光電保護膜及其制備方法，包括離型底膜層及功能層，所述功能層沿遠離所述離型底膜層方向依次包括安裝硅膠層、使用基膜層、HC層、保護硅膠層和保護基膜層，所述使用基膜層包括若干層使用基膜，其中所述使用基膜的至少一面設(shè)置有防腐蝕易接著層，所述防腐蝕易接著層的材質(zhì)為聚酯、聚氨酯、丙烯酸、有機硅涂層中的一種或幾種的組合。本發(fā)明的保護膜，通過在使用基膜層的使用基膜上預(yù)先涂覆防腐蝕易接著層，可以有效提高涂膠后產(chǎn)品的撕裂強度。??