一種高強度屏下指紋識別光電保護膜及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201811558964.2 申請日 -
公開（公告）號 CN111334209A 公開（公告）日 2020-06-26
申請公布號 CN111334209A 申請公布日 2020-06-26
分類號 C09J7/29(2018.01)I 分類 -
發(fā)明人 金國華 申請（專利權）人 浙江欣麟新材料技術有限公司
代理機構 宿遷市永泰睿博知識產(chǎn)權代理事務所（普通合伙） 代理人 浙江欣麟新材料技術有限公司
地址 321102浙江省金華市蘭溪經(jīng)濟開發(fā)區(qū)創(chuàng)業(yè)大道13號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種高強度屏下指紋識別光電保護膜，所述光電保護膜由上而下依次設置有特殊材質樹脂保護膜層、第一硅膠層、硬化層、PC材質基膜層、第二硅膠層及特殊材質樹脂離型膜層，所述PC材質基膜層為低相位差薄膜，所述低相位差薄膜的Re和Rth兩個方向的相位差小于30nm；所述制備方法為先在所述PC材質基層膜上涂布防腐蝕易接著層，然后各層依次進行疊合即可得；通過上述技術方案提供的光電保護膜，PC材質基膜層選用低相位差薄膜，不存在大的相位差，能夠有效提高對所述光電保護膜對指紋的識別度和響應速度；且手機貼上該保護膜后，使用者佩戴偏光眼鏡或太陽眼鏡也可正常觀看屏幕，不會出現(xiàn)看屏幕色彩虛影失真的問題，保真度得到了保證。??