一種微波等離子體化學氣相連續(xù)沉積系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202021476959.X 申請日 -
公開（公告）號 CN213172566U 公開（公告）日 2021-05-11
申請公布號 CN213172566U 申請公布日 2021-05-11
分類號 C23C16/54;C23C16/511 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 孫耀明;彭曉華;陳壽;王鑫;李彥灼;劉曉東;江俊靈;肖艷蘋 申請（專利權(quán)）人 深圳市八六三新材料技術(shù)有限責任公司
代理機構(gòu) 深圳市君勝知識產(chǎn)權(quán)代理事務所（普通合伙） 代理人 劉芙蓉
地址 518117 廣東省深圳市龍崗區(qū)龍崗大道(坪地段)1001號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種微波等離子體化學氣相連續(xù)沉積系統(tǒng)。所述微波等離子體化學氣相連續(xù)沉積系統(tǒng)，包括：多個真空抽氣及充氣組件，位于所述真空抽氣及充氣組件上方的微波組件；所述真空抽氣及充氣組件用于對所述容器的內(nèi)部抽真空以及充入工作氣體；所述微波組件為可移動微波組件，用于通過移動與各個所述真空抽氣及充氣組件之間切換配合以實現(xiàn)微波等離子體化學氣相沉積。本實用新型所述微波組件能夠在多個真空抽氣及充氣組件之間切換，免除了放氣、取樣及抽真空時微波組件的閑置問題，可以實現(xiàn)微波等離子體化學氣相連續(xù)沉積，且無需增加成本最高的微波組件，效率即可提升。