一種基于微波等離子體化學(xué)氣相沉積的阻隔容器

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010710544.2 申請日 -
公開（公告）號(hào) CN112030134A 公開（公告）日 2020-12-04
申請公布號(hào) CN112030134A 申請公布日 2020-12-04
分類號(hào) C23C16/40;C23C16/511;C23C14/06;C23C14/10;C23C14/30;C23C14/35;C23C28/04 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 孫耀明;彭曉華;陳壽;王鑫;李彥灼;劉曉東;江俊靈;肖艷蘋 申請（專利權(quán)）人 深圳市八六三新材料技術(shù)有限責(zé)任公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳市君勝知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 深圳市八六三新材料技術(shù)有限責(zé)任公司
地址 518117 廣東省深圳市龍崗區(qū)龍崗大道(坪地段)1001號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種基于微波等離子體化學(xué)氣相沉積的阻隔容器。所述基于微波等離子體化學(xué)氣相沉積的阻隔容器的容器壁包括：透明容器壁，設(shè)置在所述透明容器壁的內(nèi)壁上的納米阻隔層、設(shè)置在所述透明容器壁的外壁上的第一介質(zhì)層、設(shè)置在所述第一介質(zhì)層上表面的第二介質(zhì)層其中，所述第二介質(zhì)層的折射率低于所述第一介質(zhì)層的折射率。本發(fā)明將所述納米阻隔層設(shè)置在所述透明容器內(nèi)壁一側(cè)，而將第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層設(shè)置在所述透明容器外壁一側(cè)，克服了在納米阻隔層上鍍制多層介質(zhì)膜致使該側(cè)膜層太厚造成的微缺陷，導(dǎo)致的阻隔性降低的問題；所述納米阻隔層、透明容器、第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層組成光學(xué)干涉膜，呈現(xiàn)出一定顏色。