一種低吸收高功率光纖激光增透膜及其制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110900073.6 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113684449A 公開（公告）日 2021-11-23
申請(qǐng)公布號(hào) CN113684449A 申請(qǐng)公布日 2021-11-23
分類號(hào) C23C14/08;C23C14/10;C23C14/24;G02B1/115 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 李全民;王澤棟;朱敏;吳玉堂 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 南京波長光電科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京中律知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 李建芳
地址 211121 江蘇省南京市江寧區(qū)湖熟工業(yè)集中區(qū)波光路18號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種低吸收高功率光纖激光增透膜及其制備方法，低吸收高功率光纖激光增透膜，包括交替蒸鍍的氧化鉿層和二氧化硅層。本發(fā)明低吸收高功率光纖激光增透膜，所得增透膜在1000?1100波段透過率可達(dá)99.9％以上；弱吸收小于1.6ppm，同時(shí)提高了增透膜的耐磨性、附著力和耐水性等性能，可滿足目前激光領(lǐng)域的一些高端應(yīng)用；膜層結(jié)構(gòu)簡單，成本低。