一種氣體循環(huán)裝置及裝置內(nèi)氣體循環(huán)方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201410001129.4 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN103966608B | 公開(公告)日 | 2018-05-22 |
申請公布號 | CN103966608B | 申請公布日 | 2018-05-22 |
分類號 | C23F1/46 | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 耐迪·薩多克 | 申請(專利權)人 | 橋德聯(lián)合自動化(蘇州)有限公司 |
代理機構 | 南京蘇科專利代理有限責任公司 | 代理人 | 陶克(蘇州)機械設備有限公司 |
地址 | 215022 江蘇省蘇州市展業(yè)路8號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供了一種與刻蝕液設備連接的氣體循環(huán)系統(tǒng)及裝置內(nèi)氣體循環(huán)方法。通過冷凝階段、洗滌階段及電滲析階段能有效地處理刻蝕液再生過程中產(chǎn)生的有害氣體。本發(fā)明的突出效果為:刻蝕液再生用電解槽結構簡單、緊湊,能很好地為再生過程提供需要的加速劑和反應氣體;整個再生過程不需要添加任何再生用的添加劑;提高了蝕刻過程的穩(wěn)定性和靈活性,將大大改善蝕刻工藝;最終無有害氣體排出,綠色環(huán)保。 |
