一種ICP刻蝕機(jī)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201720416663.0 申請日 -
公開（公告）號(hào) CN206628442U 公開（公告）日 2017-11-10
申請公布號(hào) CN206628442U 申請公布日 2017-11-10
分類號(hào) H01J37/20(2006.01)I;H01J37/305(2006.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 梁萬國;李廣偉;張新漢;陳懷熹;繆龍;馮新凱;鄒小林 申請（專利權(quán)）人 福建睿創(chuàng)光電科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 福州科揚(yáng)專利事務(wù)所 代理人 福建中科晶創(chuàng)光電科技有限公司;福建睿創(chuàng)光電科技有限公司
地址 350100 福建省福州市閩侯縣上街鎮(zhèn)科技東路中科院海西研究院（中國科學(xué)院福建物質(zhì)結(jié)構(gòu)研究所）3號(hào)樓726室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及一種ICP刻蝕機(jī)，包括豎直截面為U字形的底座和與底座鉸接的可開合的上蓋；上蓋內(nèi)設(shè)置有工作氣體進(jìn)氣口和功率源；所述底座內(nèi)從上至下依次設(shè)置有放置晶片的轉(zhuǎn)盤和托盤；所述轉(zhuǎn)盤可在水平方向上轉(zhuǎn)動(dòng)；所述托盤由一固定在底座內(nèi)底面的液壓裝置驅(qū)動(dòng)升降；該刻蝕機(jī)可以使離子源更均勻的刻蝕晶片。