一種基片曝光吸盤

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201721777171.0 申請日 -
公開（公告）號 CN207541410U 公開（公告）日 2018-06-26
申請公布號 CN207541410U 申請公布日 2018-06-26
分類號 G03F7/20 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 梁萬國;李廣偉;陳懷熹;繆龍;馮新凱;鄒小林 申請（專利權(quán)）人 福建睿創(chuàng)光電科技有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 350108 福建省福州市閩侯縣上街鎮(zhèn)科技東路中科院海西研究院(中國科學(xué)院福建物質(zhì)結(jié)構(gòu)研究所)3號樓726室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型提供一種基片曝光吸盤；包括吸盤主體，還包括載片、負壓抽嘴、壓力表和壓力調(diào)節(jié)閥；所述吸盤主體的內(nèi)腔內(nèi)具有一圈凸臺；所述凸臺上嵌有一圈密封圈；所述載片通過所述密封圈可拆卸安裝在所述凸臺上，其中所述載片的外表面上設(shè)有一個卡固組件；所述負壓抽嘴、壓力表和壓力調(diào)節(jié)閥均設(shè)于所述吸盤主體上，且與所述吸盤主體的內(nèi)腔連通。在曝光過程中，使用本實用新型代替常規(guī)的夾持夾具，本實用新型吸附壓力穩(wěn)定、不易脫片、基片變形量小，特別是對于厚度較薄的基片，對保證基片的形變量更有效。