一種用于電鍍液的羥基烷磺酸的制備工藝

基本信息

申請?zhí)?/td> CN89103987.2 申請日 -
公開（公告）號 CN1025562C 公開（公告）日 1994-08-03
申請公布號 CN1025562C 申請公布日 1994-08-03
分類號 C07C309/08;C25D3/60 分類 有機化學〔2〕;
發(fā)明人 陳之文;廖湘旭;錢偉強;丁楨祥;譚德順;孫德平 申請（專利權）人 機械工業(yè)第二設計研究院有限公司
代理機構(gòu) 浙江省專利事務所 代理人 機械電子工業(yè)部第二設計研究院;杭州滾鍍廠
地址 310022浙江省杭州市石橋路84號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種用于電鍍工藝的羥基烷磺酸的制備工藝，產(chǎn)晶廣泛用于電鍍工藝。以羥基烷磺酸的堿金屬鹽為原料，用固體Ba(OH)2·8H2O將其中有害的SO4＝SO3＝進行除雜分離，然后用強酸性陽離子交換樹脂進行離子交換轉(zhuǎn)型，得到適合電鍍工藝要求的羥基烷磺酸，本工藝操作簡單，效果好，生產(chǎn)成本大大降低，具有產(chǎn)品無毒，簡化三廢處理、節(jié)省能耗等優(yōu)點，制得的產(chǎn)品特別適用于錫鉛電鍍工藝，能獲得優(yōu)良的鍍層，外表達到全光亮水平。