一種磁控濺射鍍膜用鋁罩

基本信息

申請?zhí)?/td> CN200720066580.X 申請日 -
公開（公告）號 CN201012933Y 公開（公告）日 2008-01-30
申請公布號 CN201012933Y 申請公布日 2008-01-30
分類號 C23C14/35(2006.01) 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 程遠達;余前春;夏黎海;丁亞強 申請（專利權(quán)）人 上海賀利氏工業(yè)技術(shù)材料有限公司
代理機構(gòu) 上海科盛知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 趙志遠
地址 201108上海市閔行區(qū)橋顓鎮(zhèn)光中路1號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及一種磁控濺射鍍膜用鋁罩，該鋁罩外部和內(nèi)腔表面形貌中沉積靶材材料較多的表面為規(guī)則或不規(guī)則溝槽結(jié)構(gòu)，鋁罩所有表面為含不同顆粒尺寸沙的噴沙，噴鋁，或噴沙和噴鋁兩種共同處理的表面結(jié)構(gòu)。與現(xiàn)有技術(shù)相比，增加了沉積靶材材料與鋁罩表面的接觸面積和粘接強度，大大降低了沉積靶材材料脫落的幾率和靶材原子對真空室的污染。