一種光固化氟硅聚合物的合成及其涂層制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201410147485.7 申請日 -
公開（公告）號 CN103936996B 公開（公告）日 2017-04-26
申請公布號 CN103936996B 申請公布日 2017-04-26
分類號 C08G77/38(2006.01)I;C08G77/385(2006.01)I;C08G77/12(2006.01)I;C08G77/06(2006.01)I;C09D183/08(2006.01)I;C09D175/14(2006.01)I;C09D163/10(2006.01)I;C09D133/04(2006.01)I;C09D7/12(2006.01)I 分類 有機高分子化合物；其制備或化學(xué)加工；以其為基料的組合物;
發(fā)明人 張創(chuàng) 申請（專利權(quán)）人 廣東信翼科技有限公司
代理機構(gòu) 廣州粵高專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 任重
地址 525027 廣東省茂名市茂港區(qū)茂名高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)管委會辦公樓303-C5室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種光固化氟硅聚合物的制備方法。所述光固化氟硅高聚物是由含氫聚硅氧烷分別與含氟烯烴、烯烴類雙官能團活性稀釋劑進行硅氫加成反應(yīng)合成制備得到的具有光敏性的氟硅聚合物，并用于制備光固化氟硅復(fù)合涂層。其結(jié)構(gòu)式如式（Ⅰ）所示：式（Ⅰ），其中，Rf為含氟基團，R為含烯烴基光敏性基團，x為10~100，y為10~30，z為5~20；其中x占總量比例60~80%，y＋z占總量20~40%。本發(fā)明通過硅氫加成法在聚硅氧烷側(cè)鏈上引入含氟基團和光固化活性基團，其方法較縮聚法更為簡單且具有較高產(chǎn)率。合成的光敏性氟硅聚合物與活性稀釋劑、增塑劑、填料、光引發(fā)劑等充分混合后在紫外光下可固化為氟硅涂層，其具有優(yōu)異的耐高低溫、疏水疏油、防污、耐候等性能，可應(yīng)用于電子電器、化工、汽車等高新科技領(lǐng)域。