一種勻膠顯影機的顯影方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010754884.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN111965957A | 公開(公告)日 | 2020-11-20 |
申請公布號 | CN111965957A | 申請公布日 | 2020-11-20 |
分類號 | G03F7/30 | 分類 | 攝影術(shù);電影術(shù);利用了光波以外其他波的類似技術(shù);電記錄術(shù);全息攝影術(shù)〔4〕; |
發(fā)明人 | 丁桃寶 | 申請(專利權(quán))人 | 江蘇晉譽達(dá)半導(dǎo)體股份有限公司 |
代理機構(gòu) | 蘇州金項專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 江蘇晉譽達(dá)半導(dǎo)體股份有限公司 |
地址 | 215600 江蘇省蘇州市張家港經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)福新路2號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種勻膠顯影機的顯影方法,包括以下步驟:S1、將晶圓輸送至旋轉(zhuǎn)臺上;S2、旋轉(zhuǎn)臺勻加速至900?1200rpm并勻速持續(xù)50?60S,顯影液噴淋至晶圓表面;S旋轉(zhuǎn)臺勻減速至150?200rpm并勻速持續(xù)25?30S,顯影液持續(xù)噴淋;S4、旋轉(zhuǎn)臺勻減速至0并保持25?35S,停止噴淋顯影液;S5、旋轉(zhuǎn)臺勻加速至1050?1150rpm并持續(xù)30?40s,顯影液持續(xù)噴淋;S6、旋轉(zhuǎn)臺勻減速至150?200rpm并勻速持續(xù)50?55S,顯影液噴嘴停止噴淋并用去離子水清洗;S7、旋轉(zhuǎn)臺勻加速至1500?1600rpm并持續(xù)30?35S;S8、對晶圓表面吹掃氮氣持續(xù)25?30S;S9、旋轉(zhuǎn)臺停止并將晶圓移出。該顯影方法可以改善晶圓線條寬度的均勻性和表面圖案的一致性,提高芯片的良品率。 |
